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- 石墨和陶瓷基复合材料加工
石墨基材料在真空炉制造、半导体行业、能源领域、化学工业和核技术等领域中提供了多种可能的应用。如果要将它们用于高纯度的应用中(如:半导体生产),石墨部件本身必须表现出与待处理产品具有相似或更好的纯度。因此,在制造过程中所产生的污染必须保持在最低限度。
石墨提纯在最高可达 2400 °C 的温度和在真空或气体分压条件下进行。由于许多微量元素(特别是金属)会形成对高温非常稳定的碳化物,因此需要借助氯和氟进行纯化。氯和氟可以以相对无害的化合物的形式配合工艺,并且一直到进入炉腔后才会释放它们的反应活性,从而达到纯化效果。
部分典型石墨纯化应用,包括:
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用于真空炉和单晶炉系统的石墨加热元件
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真空炉结构和单晶炉的隔热石墨毡
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外延和涂层系统的石墨盘以及料架
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在各种应用中,石墨材料被用作功能性涂层(特别是热解碳和碳化硅以及碳化钽),从而达到提高部件的使用寿命或耐化学性等目的。这些涂层一般通过 CVD 工艺实现。 CVD 工艺在分压或略低于大气压的高温下进行。它们在温度均匀性、控制精度以及工艺气体控制方面均有特殊的要求。
PVA拥有模拟温度分布和气体流动的处理方法,从而使得特定过程的系统设计能够适应客户的应用。
我司与各个客户的工艺程师保持密切的合作关系,帮助他们开发和建造 CVD 反应炉,并在公平竞争环境中为其提供全面的专业知识。
CVD涂层炉的典型例子,包括:
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碳纤维涂层
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赛车运动中的制动部件
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航空航天零部件
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真空炉和晶体生长炉部件
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陶瓷基复合材料涂层
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陶瓷基复合材料熔渗
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MOCVD石墨托盘
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